|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 722 van 806 gevonden artikelen
| Titel: |
The influence of implanted dopants on stresses and diffusion processes in NiO films during thermal oxidation of Ni |
| Auteur: |
Loison, D. Pivin, J.C. Chaumont, J. Roques-Carmes, C. |
| Verschenen in: |
Nuclear instruments and methods in physics research |
| Paginering: | Jaargang 209-210 (1983) nr. P2 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1983 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 722 van 806 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |